WCC800 Beschichtungsanlage Sputter-Abscheidungsprozess
Ionenquelle
- Hochenergetisches Plasma zur Oberflächenreinigung
- Ätzen auf atomarer Ebene ohne Beeinträchtigung der Rauheit;
- Einfache Wartung
Design mit asymmetrischem Magnetfeld für hohe Zielausnutzung;
- Beschichtungsart: Cr, WC/C, TiAlN usw.
- Beschichtungsart: Cr, WC/C, TiAlN usw.
- Sorgt für eine bessere Beschichtungsqualität
- Geringere Filmspannung
| Modell | WCC800 |
|---|---|
| Technologie | 1DCMS+3HiPIMS |
| Beschichtungsart | Cr, WC/C, TiAlN usw. |
| Radierung | SATZ |
| Anzahl der Kathoden | 4 |
| Größe (L x B x H: mm) | 3750 × 1800 × 2500 |
| Kammervolumen (m³) | 0,8 |
| Beschichtungsvolumen (mm) | Φ650 × 400 |
| Tragfähigkeit (Bäume) | 8/oder gemäß Kundenwunsch |
| Maximale Belastung (kg) | 350 |
| Spindeldurchmesser (mm) | Φ170 |
| Bearbeitungszeit (h) | 4–5 |





